특강세미나
제목
반도체물성연구소 세미나 안내 (10월 13일 (목) 오후 5:00)
반도체물성연구소 | 2005-10-11 | 조회 1091
본문 내용
이번주 반도체물성연구소 세미나를 안내하오니 관심있으신 분들의
많은 참여 부탁드립니다.
제목: Plasma applications in microelectronics
연사: 성균관대학교, 신소재공학부, 이 내 응 교수
일시: 2005년 10월 13일 (목) 오후 5:00
장소: 반도체물성연구소 104호실
초록 :
플라즈마는 제4의 물질의 상태로 현재 전자산업, 환경분야, 바이오 분야 등 많은 산업분야에서 그 응용성이 확대되고 있다. 특히 반도체, 디스플레이, 마이크로 시스템소자 등 다양한 전자산업 관련 분야에서 기반기술로서 그 중요성이 점점 더 확대되고 있다. 본 세미나에서는 플라즈마의 발생기초원리 및 마이크로 전자소자 관련 분야에서의 응용에 대해서 살펴보도록 한다. 기초 공정 분야로서의 박막공정기술, 플라즈마 에칭기술, 표면처리 기술 등에 대하여 소개하고 이들 공정 기술이 어떻게 실리콘 반도체, 디스플레이소자, 마이크로 시스템 소자, 그리고 플렉서블 전자소자 등에 응용이 될 수 있는지에 대하여 개괄하도록 한다.
많은 참여 부탁드립니다.
제목: Plasma applications in microelectronics
연사: 성균관대학교, 신소재공학부, 이 내 응 교수
일시: 2005년 10월 13일 (목) 오후 5:00
장소: 반도체물성연구소 104호실
초록 :
플라즈마는 제4의 물질의 상태로 현재 전자산업, 환경분야, 바이오 분야 등 많은 산업분야에서 그 응용성이 확대되고 있다. 특히 반도체, 디스플레이, 마이크로 시스템소자 등 다양한 전자산업 관련 분야에서 기반기술로서 그 중요성이 점점 더 확대되고 있다. 본 세미나에서는 플라즈마의 발생기초원리 및 마이크로 전자소자 관련 분야에서의 응용에 대해서 살펴보도록 한다. 기초 공정 분야로서의 박막공정기술, 플라즈마 에칭기술, 표면처리 기술 등에 대하여 소개하고 이들 공정 기술이 어떻게 실리콘 반도체, 디스플레이소자, 마이크로 시스템 소자, 그리고 플렉서블 전자소자 등에 응용이 될 수 있는지에 대하여 개괄하도록 한다.
이 페이지에 대한 의견을 주세요